Paviršinis mikroformavimas. Mikro ir nanodarinių ėsdinimas reaktyviojo joninio ėsdinimo būdu
Aprašymas:
Paviršinio mikroformavimo procesai bei reaktyvusis joninis dielektrikų (kvarcas, SiO2, Si3N4) ėsdinimas atliekami su reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginiu PK-2430 (plazmos šaltinio galia 3 kW; plazmos dažnis 13.56 MHz; srities, kur vyksta ėsdinimas, skersmuo 15 cm).
Raktažodžiai:
reaktyvus joninis ėsdinimas
Mokslo kryptis:
Sveikatos technologijos ir biotechnologijos, Informacinės ir ryšių technologijos, Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos
Sveikatos technologijos ir biotechnologijos, Informacinės ir ryšių technologijos, Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos
RIE/PECVD: Reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginys - PK-2430