MPCVD: Mikrobange plazma aktyvuoto cheminio nusodinimo iš garų fazės sistema - iplas Cyrannus I-6
Aprašymas:

Kristalinio deimanto, anglies nanovamzdelių, grafeno auginimas

Raktažodžiai:
mikrobangė plazma, plazma aktyvuotas cheminis nusodinimas iš garų fazės, MWCVD, PECVD, auginimas, nusodinimas, deimantas, grafenas, anglis, sluoksnių formavimas

Mokslo kryptis:
Diagnostinės ir matavimo technologijos, Naujos medžiagos aukštosioms technologijoms, Technologijos darniam vystymuisi ir energetika
Techninė specifikacija:
  • Plazmos šaltinio skersmuo: 6" 
  • Plazmos šaltinio galia: 6 kW
  • Plazmos dažnis: 2.45 GHz
  • Tolygaus nusodinimo srities skersmuo: 5 cm
Taikymo sritys:
plonų sluoksnių nusodinimas ir padengimas
Užklausos forma