Universali optinės spektroskopijos ir lazerinio mikrofabrikavimo sistema. Fabrikavimui galima naudoti sufokusuotą pirmos (1030 nm), antros (515 nm) ir trecios (343 nm) harmoniką bei antros harmonikos valdomo periodo (0.8-1.3 um) interferenciniu lauku. Spektroskopinės sistemos žadinamo bangis ilgio derinima diapazonas 315-2600 nm, zonduojanžio pluošto spektirnis plotis 480-1100 nm, laikinė skyra 16.67 fs, didžiausias impulsų užlaikymas 1.8 ns, absorbcijos pokyčių detektavimo riba 0,5 mOD
Raktažodžiai:
Femtosekundinis lazeris, ultra spartus lazeris, Lazerinis apdirbimas, mikroapdirbimas, abliacija, lazerinis pjovimas, lazerinis gręžimas, lazerinis žymėjimas, lazerinis graviravimas, galvoskeneris, antra harmonika, trečia harmonika, abliacija interferenciniu lauku, holografinė litografija, 515, 315, 1030, kinetinė spektroskopija, žadinimo zondavimo spektroskopija, skirtuminės sugerties spektroskopija, skirtuminė sugertis, ultra sparti spektroskopija, lazerinė technika
Diagnostinės ir matavimo technologijos, Naujos medžiagos aukštosioms technologijoms, Technologijos darniam vystymuisi ir energetika
- Yb:KGW lazerio bangos ilgis 1030 nm
- galia 4W
- impulso trukmė 290 fs
- energija > 0.2 mJ
- Mikrofabrikavimas 160mm x 160 mm plote su 300 nm pozicionavimo tikslumu.
- Stalų judėjimo greitis 300 mm/s, bandinio svoris iki 3 kg.
medžiagų apibūdinimas ir analizė, holografija ir litografija, mikro- ir nanogamyba