Optinė litografija
Aprašymas:
Optinė litografija – mikrotechnologijų procesas, skirtas plonų plėvelių ar tūrinių medžiagų paviršiui struktūrizuoti. Reikalingas piešinys šviesai jautraus rezisto sluoksnyje formuojamas, eksponuojant fotorezistą ultravioletiniais spinduliais per fotokaukę. Priklausomai nuo fotorezisto poliškumo, išryškinus eksponuoti plotai arba ištirps, arba išliks. Optinės litografijos metodu galima suformuoti >1 μm dydžio darinius.
Paslauga atliekama ISO5 klasės švariosiose patalpose.
Raktažodžiai:
optinė litografija, topologijos, vaizdo formavimas, mikrogamyba
Mokslo kryptis:
Diagnostinės ir matavimo technologijos, Naujos medžiagos aukštosioms technologijoms
Diagnostinės ir matavimo technologijos, Naujos medžiagos aukštosioms technologijoms