Paviršinis mikroformavimas. Mikro ir nanodarinių ėsdinimas reaktyviojo joninio ėsdinimo būdu
Aprašymas:
Paviršinio mikroformavimo procesai bei reaktyvusis joninis dielektrikų (kvarcas, SiO2, Si3N4) ėsdinimas atliekami su reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginiu PK-2430 (plazmos šaltinio galia 3 kW; plazmos dažnis 13.56 MHz; srities, kur vyksta ėsdinimas, skersmuo 15 cm).

Raktažodžiai:
reaktyvus joninis ėsdinimas

Mokslo kryptis:
Diagnostinės ir matavimo technologijos, Naujos medžiagos aukštosioms technologijoms, Technologijos darniam vystymuisi ir energetika
Reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginys PK-2430
Užklausos forma