Taškinės holografinės litografijos įrenginys
Aprašymas:
Taškų hologramų originalų formavimas fotorezisto sluoksnyje.
Raktažodžiai:
Dot-matrix hologram origination,photoresist,Taškų hologramos (dot-matrix hologram),hologramų originalai,fotorezistas,optiškai kintančių apsaugos ženklų formavimo įranga
Mokslo kryptis:
Sveikatos technologijos ir biotechnologijos, Informacinės ir ryšių technologijos, Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos
Sveikatos technologijos ir biotechnologijos, Informacinės ir ryšių technologijos, Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos
Techninė specifikacija:
Lazerio spindulio bangos ilgis - 405 nm. Formuojamų taškinių hologramų matmenys: 200*200 mm. Pasirenkama skyra: 317; 600, 1200 dpi
Trumpas paslaugos aprašymas:
holografija ir litografija, mikro- ir nanogamyba
holografija ir litografija, mikro- ir nanogamyba