RIE/PECVD: Reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginys - PK-2430
Aprašymas:
Reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginys PK-2430. Paviršinio mikroformavimo procesai, reaktyvusis joninis dielektrikų (kvarcas, SiO2, Si3N4) ėsdinimas
Raktažodžiai:
radijo dažnio plazma, reaktyvusis joninis ėsdinimas, mikroformavimas, mikrofabrikavimas, sluoksnių formavimas
Mokslo kryptis:
Sveikatos technologijos ir biotechnologijos, Informacinės ir ryšių technologijos, Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos
Sveikatos technologijos ir biotechnologijos, Informacinės ir ryšių technologijos, Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos
Techninė specifikacija:
- Plazmos šaltinio galia: 3 kW
- Plazmos dažnis: 13.56 MHz
- Srities, kur vyksta ėsdinimas skersmuo: 15 cm
Trumpas paslaugos aprašymas:
plonų sluoksnių nusodinimas ir padengimas, mikro- ir nanogamyba
plonų sluoksnių nusodinimas ir padengimas, mikro- ir nanogamyba