Holografinis, litografinis ir lazerinis struktūrų formavimas
Aprašymas:
Ši paslauga apima kompleksinius mikro- ir nanostruktūrų formavimo sprendimus, taikant įvairius litografijos metodus. Tikslaus rašymo pajėgumą užtikrina „Raith e-Line Plus“ įrenginys, skirtas didelės skiriamosios gebos elektronų pluošto litografijai (EBL), būtinas nanofotonikos ir puslaidininkių elementų kūrimui. Periodinių gardelių bei difrakcinių optinių elementų (DOE) formavimui naudojamos Loido veidrodžio ir taškinės holografijos sistemos. Procesų lankstumą gamybos grandinėje suteikia OAI „Hybralign 204IR“ sistema, kuri įgalina tikslų kaukių sutapdinimą bei nanoįspaudimo litografiją (NIL) UV kietinimo būdu. Paslauga taip pat apima lazerinį mikroapdirbimą nuostoviosios veikos ir femtosekundiniu lazeriniu pluoštu.
Ši paslauga apima kompleksinius mikro- ir nanostruktūrų formavimo sprendimus, taikant įvairius litografijos metodus. Tikslaus rašymo pajėgumą užtikrina „Raith e-Line Plus“ įrenginys, skirtas didelės skiriamosios gebos elektronų pluošto litografijai (EBL), būtinas nanofotonikos ir puslaidininkių elementų kūrimui. Periodinių gardelių bei difrakcinių optinių elementų (DOE) formavimui naudojamos Loido veidrodžio ir taškinės holografijos sistemos. Procesų lankstumą gamybos grandinėje suteikia OAI „Hybralign 204IR“ sistema, kuri įgalina tikslų kaukių sutapdinimą bei nanoįspaudimo litografiją (NIL) UV kietinimo būdu. Paslauga taip pat apima lazerinį mikroapdirbimą nuostoviosios veikos ir femtosekundiniu lazeriniu pluoštu.
Raktažodžiai:
null
Mokslo kryptis:
Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos
Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos
LIoyd'o veidrodžio holografinės litografijos sistema
Taškinės holografinės litografijos įrenginys
UV lazeris - CrystaLaser
EBL: Elektroninės litografijos įrenginys - Raith e-Line Plus
Sutapdinimo ir nanoįspaudimo litografijos įrenginys - OAI Hybralign 204IR
Universali optinės spektroskopijos ir lazerinio mikroapdirbimo sistema