
Paviršinio mikroformavimo procesai bei reaktyvusis joninis dielektrikų (kvarcas, SiO2, Si3N4) ėsdinimas atliekami su reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginiu PK-2430 (plazmos šaltinio galia 3 kW; plazmos dažnis 13.56 MHz; srities, kur vyksta ėsdinimas, skersmuo 15 cm).
Raktažodžiai:
reaktyvus joninis ėsdinimas
Diagnostinės ir matavimo technologijos, Naujos medžiagos aukštosioms technologijoms, Technologijos darniam vystymuisi ir energetika