Paviršinis mikroformavimas. Mikro ir nanodarinių ėsdinimas reaktyviojo joninio ėsdinimo būdu
Aprašymas:
Paviršinio mikroformavimo procesai bei reaktyvusis joninis dielektrikų (kvarcas, SiO2, Si3N4) ėsdinimas atliekami su reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginiu PK-2430 (plazmos šaltinio galia 3 kW; plazmos dažnis 13.56 MHz; srities, kur vyksta ėsdinimas, skersmuo 15 cm).
Paviršinio mikroformavimo procesai bei reaktyvusis joninis dielektrikų (kvarcas, SiO2, Si3N4) ėsdinimas atliekami su reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginiu PK-2430 (plazmos šaltinio galia 3 kW; plazmos dažnis 13.56 MHz; srities, kur vyksta ėsdinimas, skersmuo 15 cm).
Raktažodžiai:
reaktyvus joninis ėsdinimas
Mokslo kryptis:
Diagnostinės ir matavimo technologijos, Naujos medžiagos aukštosioms technologijoms, Technologijos darniam vystymuisi ir energetika
Diagnostinės ir matavimo technologijos, Naujos medžiagos aukštosioms technologijoms, Technologijos darniam vystymuisi ir energetika
Reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginys PK-2430