Optinė litografija – mikrotechnologijų procesas, skirtas plonų plėvelių ar tūrinių medžiagų paviršiui struktūrizuoti. Reikalingas piešinys šviesai jautraus rezisto sluoksnyje formuojamas, eksponuojant rezistą ultravioletiniais spinduliais per fotokaukę. Optinės litografijos metodu galima suformuoti 0,5 μm dydžio darinius (mažesnių darinių formavimą riboja UV šviesos bangos ilgis ir difrakcijos reiškiniai). Nanoįspaudimo litografija – nebrangus ir našus nanometrinių struktūrų (skiriamoji geba siekia 10 nm) formavimo būdas. Nanostruktūros formuojamos, mechaniškai deformuojant rezisto sluoksnį. Įspaudimui gali būti naudojamas termoplastikas arba fotopolimeras, sukietinamas UV spinduliuote. Kokybiškam įspaudui svarbu užtikrinti mažą adheziją tarp spaudo ir rezisto bei parinkti tinkamus proceso parametrus (įspaudimo trukmę, slėgį ir kt.). Nanoįspaudimo litografijai naudojamas spaudas gaminamas, taikant elektroninę bei optinę litografiją ir gilaus joninio ėsdinimo procesus.