
Reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginys PK-2430
Raktažodžiai:
radijo dažnio plazma, reaktyvusis joninis ėsdinimas, mikroformavimas, mikrofabrikavimas, sluoksnių formavimas
Diagnostinės ir matavimo technologijos, Naujos medžiagos aukštosioms technologijoms, Technologijos darniam vystymuisi ir energetika
plazmos šaltinio galia 3 kW plazmos dažnis 13.56 MHz srities kur vyksta ėsdinimas skersmuo 15 cm
Paviršinio mikroformavimo procesai, reaktyvusis joninis dielektrikų (kvarcas, SiO2, Si3N4) ėsdinimas