MMI
Ieškoti

Mikrobange plazma aktyvuoto cheminio nusodinimo iš garų fazės sistema
Aprašymas:

Mikrobange plazma aktyvuoto cheminio nusodinimo iš garų fazės sistema

Raktažodžiai: mikrobangė plazma, plazma aktyvuotas cheminis nusodinimas iš garų fazės, MWCVD, PECVD, auginimas, nusodinimas, deimantas, grafenas, anglis, sluoksnių formavimas

Mokslo kryptis: Diagnostinės ir matavimo technologijos, Naujos medžiagos aukštosioms technologijoms, Technologijos darniam vystymuisi ir energetika
Techninė specifikacija:

plazmos šaltinio skersmuo 6" plazmos šaltinio galia 6 kW plazmos dažnis 2.45 GHz tolygaus nusodinimo srities skersmuo 5 cm

Taikymo sritys: Kristalinio deimanto, anglies nanovamzdelių, grafeno auginimas
Užklausos forma