|
Lazerinis elipsometras - Gaertner L115
Aprašymas: Lazerinis elipsometras yra tikslus optinis prietaisas, naudojamas plonų plėvelių storiui ir optinėms savybėms matuoti. Jame naudojama poliarizuota lazerio šviesa, kuriai atsispindėjus nuo bandinio analizuojami |
|
|
CAPA: Kapiliarinio mikro- ir nanodalelių nusodinimo įrenginys
Aprašymas: Mikro ir nanodalelių iš koloidinio tirpalo tvarkingas užnešimas ant trafareto naudojantis kapiliarinėmis jėgomis. Proceso vaizdinimas optiniu mikroskopu su tamsaus lauko interferencinio kontrasto funkcija. |
|
|
Lazerinio ženklinimo sistema - Reaying RY-F30
Aprašymas: Lazerinis ženklinimas |
|
|
3D spausdintuvas - Alfawise W10
Aprašymas: 3D spausdintuvas - Alfawise W10. |
|
|
Šviesolaidinis spektrometras - CMA 012
Aprašymas: Šviesolaidinis spektrometras |
|
|
Lazerio galios ir energijos matuoklis - Ophir Nova II
Aprašymas: Ophir Nova II yra universalus rankinis lazerinės |
|
|
ICP RIE: Indukcine plazma aktyvuoto reaktyviojo joninio ėsdinimo įrenginys - PlasmaTherm Apex SLR
Aprašymas: ICP RIE įranga PlasmaTherm Apex SLR naudojama įvairių medžiagų reaktyviajam joniniam ėsdinimui, dažniausiai Si/SiO2. Įrangoje sumontuota fluoru grįstos dujos bei kriogenines temperatūras galintis pasiekti elektrodas, leidžiantis atlikti silicio gilųjų ėsdinimą (DRIE). ICP RIE sistemos turi du nepriklausomus radio dažnio maitinimo šaltinius: vienas valdo talpinės plazmos (CCP) generavimą ir dėl to kylantį priešįtampį; antrasis tiekia elektros energiją ritei, kuri indukciškai generuoja plazmą (ICP) viršutinėje kameros dalyje. Tokia konfigūracija leidžia atskirai valdyti plazmos tankį (ICP) ir jonų energiją (CCP), dėl to galima pasiekti daug didesnį ėsdinimo greitį, nepaaukojant selektyvumo. Ši įranga yra ISO5 klasės švariosiose patalpose. |
|
|
Spektroskopinis elipsometras - Semilab GES5-E
Aprašymas: Spektroskopinis elipsometras perdengiantis UV-VIS-NIR spektrį diapazoną. |
|
|
EBL: Elektroninės litografijos įrenginys - Raith e-Line Plus
Aprašymas: Raith e-Line Plus yra pažangi elektroninės litografijos sistema, skirta didelio tikslumo nanogamybai ir nanoraštų formavimui. Tai yra lankstus įrenginys, turintis aukštos raiškos elektronų pluošto koloną, galintis formuoti |
|
|
Sutapdinimo ir nanoįspaudimo litografijos įrenginys - OAI Hybralign 204IR
Aprašymas: OAI Hybralign Series 204IR yra kaukių sutapdinimo įrenginys, naudojamas lygiagrečiam plokštelių eksponavimui per fotošabloną, taip perkeliant mikrostruktūras į šviesai jautrų sluoksnį. Įrenginys gali naudoti artimo UV ir gilaus UV diapazono šviesą. Taip pat yra galimybė sutapdinti su žymėmis priešingoje plokštelės pusėje. Be to, įrenginyje yra integruotas UV nanoįspaudimo litografijos priedas. Ši įranga yra ISO5 klasės švariosiose patalpose. |
|