Antireflekcinių plėvelių bei paviršių formavimas ir tyrimas
Aprašymas:
Sumažinančių atspindžius (antireflekcinių) plėvelių auginimas vakuuminio garinimo, magnetroninio dulkinimo, plazma aktyvuoto cheminio nusodinimo iš garų fazės, jonpluoštės sintezės būdais. Gali būti derinama su padidėjusiu kietumu, atsparumu dilimui, braižymui bei korozijai ir paviršiaus laisvosios energijos kontrole.
Padėklo temperatūra: 20-350˚C. Naudojamos dujos: SiH4, NH3, N2, CF4, O2, CHF3, Ar.
Sumažinančių atspindžius (antireflekcinių) plėvelių auginimas vakuuminio garinimo, magnetroninio dulkinimo, plazma aktyvuoto cheminio nusodinimo iš garų fazės, jonpluoštės sintezės būdais. Gali būti derinama su padidėjusiu kietumu, atsparumu dilimui, braižymui bei korozijai ir paviršiaus laisvosios energijos kontrole.
Padėklo temperatūra: 20-350˚C. Naudojamos dujos: SiH4, NH3, N2, CF4, O2, CHF3, Ar.
Raktažodžiai:
Antireflekcinės plėvelės, paviršiaus formavimas, vakuuminės technologijos
Mokslo kryptis:
Sveikatos technologijos ir biotechnologijos, Informacinės ir ryšių technologijos, Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos
Sveikatos technologijos ir biotechnologijos, Informacinės ir ryšių technologijos, Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos
IBE: Joninio ėsdinimo įrenginys - USI-IONIC
Deimanto tipo anglies dangų auginimo jonpluoštės sintezės būdu sistema
FTIR: Furje transformacijos infraraudonosios srities spektrometras - Bruker Vertex 70
RIE/PECVD: Reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginys - PK-2430
Ramano sklaidos spektrometras - Renishaw inVia
Magnetroninio dulkinimo įrenginys - LH A700
Spektroskopinis elipsometras - Semilab GES5-E
XPS: Universali rentgeno fotoelektronų ir jonų sklaidos spektroskopijos paviršių analizės sistema - ThermoFisher ESCALAB 250Xi