Taškinės holografinės litografijos įrenginys
Aprašymas:
Taškų hologramų originalų formavimas fotorezisto sluoksnyje.
Raktažodžiai:
Taškų hologramos (dot-matrix hologram), hologramų originalai, fotorezistas, optiškai kintančių apsaugos ženklų formavimo įranga
Mokslo kryptis:
Diagnostinės ir matavimo technologijos, Naujos medžiagos aukštosioms technologijoms, Technologijos darniam vystymuisi ir energetika
Diagnostinės ir matavimo technologijos, Naujos medžiagos aukštosioms technologijoms, Technologijos darniam vystymuisi ir energetika
Techninė specifikacija:
Lazerio spindulio bangos ilgis - 405 nm. Formuojamų taškinių hologramų matmenys: 200*200 mm. Pasirenkama skyra: 317; 600, 1200 dpi
Taikymo sritys:
holografija ir litografija, mikro- ir nanogamyba
holografija ir litografija, mikro- ir nanogamyba