Universali optinės spektroskopijos ir lazerinio mikrofabrikavimo sistema. Fabrikavimui galima naudoti sufokusuotą pirmos (1030 nm), antros (515 nm) ir trecios (343 nm) harmoniką bei antros harmonikos valdomo periodo (0.8-1.3 um) interferenciniu lauku. Spektroskopinės sistemos žadinamo bangis ilgio derinima diapazonas 315-2600 nm, zonduojanžio pluošto spektirnis plotis 480-1100 nm, laikinė skyra 16.67 fs, didžiausias impulsų užlaikymas 1.8 ns, absorbcijos pokyčių detektavimo riba 0,5 mOD
Raktažodžiai:
Femtosecond laser,ultra fast laser,laser microfabrication,micromachining,ablation,laser drilling,laser marking,laser engraving,galvoscanner,second harmonic,third harmonic,direct ablation with interference field,holographic lithography,515,315,1030,kinetic spectroscopy,pump-probe spectroscopy,differential absorption spectrometer,differential absorption,ultra fast spectroscopy,Femtosekundinis lazeris,ultra spartus lazeris,Lazerinis apdirbimas,mikroapdirbimas,abliacija,lazerinis pjovimas,lazerinis gręžimas,lazerinis žymėjimas,lazerinis graviravimas,galvoskeneris,antra harmonika,trečia harmonika,abliacija interferenciniu lauku,holografinė litografija,kinetinė spektroskopija,žadinimo zondavimo spektroskopija,skirtuminės sugerties spektroskopija,skirtuminė sugertis,ultra sparti spektroskopija,lazerinė technika
Sveikatos technologijos ir biotechnologijos, Informacinės ir ryšių technologijos, Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos
- Yb:KGW lazerio bangos ilgis 1030 nm
- galia 4W
- impulso trukmė 290 fs
- energija
medžiagų apibūdinimas ir analizė, holografija ir litografija, mikro- ir nanogamyba