Mikro bei nanostruktūrų ir plonasluoksnių darinių formavimas
Aprašymas:
Teikiame mikro- ir nanostruktūrų bei plonasluoksnių darinių formavimo paslaugas, skirtas pažangių optinių, fotoninių, elektroninių ir jutiklinių sistemų kūrimui. Darbai atliekami švariojo kambario laboratorijoje, taikant raiškiosios litografijos metodus: elektronų pluošto litografiją (EBL), UV litografiją, UV nanoįspaudimo litografiją (UV-NIL) ir reaktyvinį jonų ėsdinimą (ICP-RIE). Papildomai vykdomas plonų dangų nusodinimas fizikiniais metodais (PVD), užtikrinant tikslų sluoksnių storio ir savybių valdymą. Taip pat atliekamas nanodarinių optinių savybių modeliavimas, leidžiantis optimizuoti struktūrų dizainą pagal konkrečius taikymo reikalavimus.
Teikiame mikro- ir nanostruktūrų bei plonasluoksnių darinių formavimo paslaugas, skirtas pažangių optinių, fotoninių, elektroninių ir jutiklinių sistemų kūrimui. Darbai atliekami švariojo kambario laboratorijoje, taikant raiškiosios litografijos metodus: elektronų pluošto litografiją (EBL), UV litografiją, UV nanoįspaudimo litografiją (UV-NIL) ir reaktyvinį jonų ėsdinimą (ICP-RIE). Papildomai vykdomas plonų dangų nusodinimas fizikiniais metodais (PVD), užtikrinant tikslų sluoksnių storio ir savybių valdymą. Taip pat atliekamas nanodarinių optinių savybių modeliavimas, leidžiantis optimizuoti struktūrų dizainą pagal konkrečius taikymo reikalavimus.
Raktažodžiai:
null
Mokslo kryptis:
Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos
Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos